| 【概 要】 | 本装置は薄膜太陽電池用のスクライビング装置です。ハイパワー短パルスレーザー「Rigel」によるマルチ・ライン・レーザーを採用し、高タクト、低ランニングコストを実現いたします。またL/Sの狭ピッチ化にも対応可能です。 |
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Gemmaシリーズ 仕様
| 項 目 | 内 容 | |
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| 用 途 | 薄膜太陽電池、TCO層、SI層、メタル層のスクライビング | |
| 対応基板サイズ | 730×920 〜 2200×2600mm | |
| タクトタイム | 1100×1300mm | 2200×2600mm |
1ヘッド 45秒/枚 ( 20μm線幅、110Line加工時、基板搬送含む) 2ヘッド 30秒/枚 ( 20μm線幅、110Line加工時、基板搬送含む) |
1ヘッド 110秒/枚 ( 20μm線幅、220Line加工時、基板搬送含む) 2ヘッド 60秒/枚 ( 20μm線幅、220Line加工時、基板搬送含む) |
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| レーザー分岐数 | 6Lines / 12Lines | |
| レーザー加工形状 | 幅20μm×長さ60mm | |
| 波長（平均出力） | 532mm（25W） 1064nm（60W） ※工場出荷時に選択 |
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- ※仕様は改良のため、予告なく変更する場合があります。
