反射防止膜成膜用インラインPE-CVD^*1装置

二酸化炭素を排出しないクリーンなエネルギー源として、単位面積当たりの発電効率が高く、パネルの小面積化が可能で製造コストの削減や半導体の使用量を抑制できる「発電効率の高い太陽電池」のニーズが高まっています。
本装置は発電効率向上に大きく貢献する高品質な反射防止膜^*2を太陽電池上に効率的に生成する為に開発された量産用成膜装置です。^*3

*1：PE-CVD（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）

*2：反射防止膜とは、太陽電池が効率的に太陽光を吸収する為にシリコン基板上形成される膜です。無反射膜、AR膜と呼ばれる場合もあります。

*3：株式会社日本生産技術研究所殿と株式会社ブイ・テクノロジーが共同で本製品を開発しております。

• 高屈折率の反射防止膜を量産可能
• 膜厚、膜質の均質性/再現性が高い高屈折率のSiN膜の量産に対応します。
• 高い歩留まり
• 膜厚、膜質の制御性が高く、99％以上の高い歩留まりを実現しています。
• 高い稼働率
• 自動セルフクリーニング機能により、クリーニング停止時間及び、成膜特性回復時間を大幅に削減し、実効実稼働率を大幅に向上させています。