株式会社ナノシステムソリューションズは、独立行政法人産業技術総合研究所の支援を受け、 2004年12月に創業しました。独自の光学技術を中核に据え、超微細加工と計測という先端特殊技術分野でのニーズに応える研究開発型のベンチャー企業です。

製品

ウェーハ外観検査装置

独自の光学技術と画像処理技術を採用したウェーハ外観検査装置は、ウェーハの内部や外部に発生する様々な欠陥の高精度・高速検査を実現しており、お客様から高い評価を獲得しています。

 

<製品の特長>

・世界最高クラスの描画分解能と処理速度を達成

・複合機スループット100wafers/hrを達成

 

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エッジ検査
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エッジ検査
平坦度検査
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平坦度検査

マスクレス露光装置

マスクレス露光装置は、半導体製品やマイクロマシンの試作に不可欠な装置として国内の大学等の研究機関で、高く評価されています。

 

<製品の特長>

・国内外に60台以上の販売実績あり

・3次元(3D)描画が可能(特許取得済)

 

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マスクレス露光装置
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マスクレス露光装置
ポジレジスト露光サンプル
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ポジレジスト露光サンプル