今、最も脚光を浴びているMiniLED、μLED、OLED等の次世代ディスプレイに共通して使用されるTFT(Thin Film Transistor)基板に関する生産技術の中でも、TFTの電気特性、歩留りや品質等の生産性、装置の本体価格や運用等のコストの最適化といったテーマについての関心は特に高く、当社はレーザーアニール技術を始め、様々な関連技術の開発を進めております。
この度、ICDT2020＊1 のAdvanced Program(オンラインカンファレンス)＊2において、当社は、次世代大型パネルの実用化に貢献する、青色半導体レーザーを用いた新しいアニール技術に関する当社の取組みについての講演いたしました。
＊1：ICDTについて：Society for Information Display(SID)の一員であるSID中国が開催するカンファレンスで、2020年は中国ハイテク産業を牽引する湖北省武漢で10月11日～14日に開催されました。
＊2：Advanced ProgramのSession34(10月14日)にて発表。
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レーザーアニール装置(コンセプト)
