Stark R6(ナノシステムソリューションズ製)は、半導体用フォトマスクの描画に対応するマスクライターです。

最先端の半導体デバイス製造で使われる位相シフトマスクの製造や、モバイル通信機器・IoT・そして車載向け半導体用で使われるバイナリマスクの製造に対応しています。また、独自の消耗品フリー設計で製造コストを大幅に削減しました。最先端の半導体製造工場で実証された安定性で、高い稼働率を約束します。

 

＜重ね合わせ精度＞
独自開発したアライメント技術により、最先端ノードの位相シフトマスクの2層目処理で要求される高い重ね合わせ精度の要求に対応できます。

 

＜解像力＞
独自に開発したディストーションフリー光学系で500nmの解像力での高速かつ高精度での描画を実現しています。

 

＜消耗品フリー＞
独自の消耗品フリー設計で光源・レンズ・ミラー等の交換を必要とせず、消耗品コストの削減のみならず、消耗品交換に必要な労務費や装置のダウンタイムを不要とし、高い稼働率を長期的にも実現しています。

 

＜低消費電力＞
半導体を製造する為に要する電力消費は上昇傾向にある中、効率の高い光源を採用する事で低消費電力でマスク製造が可能となります。