PMARSは、半導体用フォトマスクのレジストレーション精度を管理し、露光機の補正に不可欠な、信頼性の高いマスクの出荷検査データをユーザーに提供します。
 

＜特徴＞

• 90～130nmノードに対応

 

• 高い繰り返し測定精度を実現
  　専用設計された当社独自の測定光学系を搭載
  　当社独自の高解像画像処理アルゴリズムを搭載

 

• 高い測定精度
  　高剛性な顕微鏡システムを搭載
  　レーザ干渉システムによる高精度位置測定