レジストレーション精度測定PMARS
PMARSは、半導体用フォトマスクのレジストレーション精度を管理し、露光機の補正に不可欠な、信頼性の高いマスクの出荷検査データをユーザーに提供します。
<特徴>
- 90~130nmノードに対応
- 高い繰り返し測定精度を実現
専用設計された当社独自の測定光学系を搭載
当社独自の高解像画像処理アルゴリズムを搭載
- 高い測定精度
高剛性な顕微鏡システムを搭載
レーザ干渉システムによる高精度位置測定
PMARS
PMARS
PMARSは、半導体用フォトマスクのレジストレーション精度を管理し、露光機の補正に不可欠な、信頼性の高いマスクの出荷検査データをユーザーに提供します。
<特徴>
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